介绍一种光学真空镀膜机内腔清洁方法

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一种光学真空镀膜机内腔清洁方法

[0001]本发明涉及光学元件真空镀膜领域,尤其是一种光学真空镀膜机内腔清洁方法。

[0002]在光学元件真空镀膜过程中,由镀膜源发出的镀膜材料蒸汽被沉积到被镀光学元件的同时,也会部分溅射并沉积到镀膜机内腔及夹具表面,并随镀膜次数及时间的增加,越累越厚。而这些沉积物在内腔及夹具表面的附着并不稳固,在光学元件镀膜过程中极易脱落到被镀光学元件上,造成被镀光学元件的镀膜缺陷。按清洁周期清除镀膜机内腔及夹具表面沉积物成为光学元件真空镀膜工作的重要组成部分。
[0003]光学元件镀膜多采用二氧化硅、二氧化钛、二氧化锆等材料,采用一般的酸洗工艺很难除去,必须采用喷砂、砂布打磨等手段才能清洁干净,不但效率低而且对镀膜机内腔及夹具损伤较大。



[0004]本发明的目的在于,解决现有光学元件真空镀膜机内腔及夹具清洁必须采用喷砂、砂布打磨等手段,效率低且对镀膜机内腔及夹具损伤较大的问题。提供一种方便快捷清洁光学真空镀膜机内腔的方法。
[0005]本发明所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法具体步骤如下:
(1)将光学真空镀膜机内腔及夹具清洁干净;
(2)装载外形尺寸合格而其它技术指标不作要求的光学元件,光学真空镀膜机中镀制隔离膜;
(3)将镀有隔离膜的光学元件取下,装载合格光学元件,按其技术要求在光学真空镀膜机中镀制膜层;
(4)光学真空镀膜机内腔及夹具达到清洁周期后,取下光学真空镀膜机内腔及夹具在酸性水性清洗液中清洗,除去内腔及夹具表面沉积物;
(5)除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面残余的酸性水性清洗液,烘干或晾干光学真空镀膜机内腔及夹具,将内腔及夹具装入光学真空镀膜机;
(6)按步骤(2)?(5)开展光学元件真空镀膜下一生产及清洁周期。
[0006]本发明所述隔离膜为可溶于酸性水性清洗液的金属膜、氧化物膜或氟化物膜中的一种或几种的组合物,膜层厚度为20?200nm。

[0007]下面结合具休实施事例,进一步阐述本发明。
[0008]实施例1
光学真空镀膜机内腔清洁方法具体步骤如下:
(1)将达到清洁周期需清洁的光学真空镀膜机内腔及夹具,用砂布除去表面沉积物并用自来水除去残余物,清洁干净;
(2)装载外形尺寸合格但其它技术指标不合格的光学元件,在光学真空镀膜机中镀制厚度为50±10nm的铝隔离膜;
(3)将镀有铝隔离膜的光学元件取下,装载合格光学元件,按其技术要求在光学真空镀膜机中镀制膜层;
(4)光学真空镀膜机内腔及夹具达到15天的清洁周期后,取下光学真空镀膜机内腔及夹具在质量百分浓度为5%的盐酸水溶液中清洗,铝隔离膜与盐酸发生反应,内腔及夹具表面沉积物脱落;
(5)用自来水漂洗三次,并用沾有无水乙醇擦拭,除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面残余的盐酸,晾干光学真空镀膜机内腔及夹具,将内腔及夹具装入光学真空镀膜机;
(6)按步骤(2)?(5)开展光学元件真空镀膜下一生产及清洁周期。
[0009]本方法除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面沉积物无需喷砂或砂布打磨,方便快捷,且对镀膜机内腔及夹具损伤较小。
[0010]实施例2
光学真空镀膜机内腔清洁方法具体步骤如下:
(1)将达到清洁周期需清洁的光学真空镀膜机内腔及夹具,喷砂除去表面沉积物并用自来水除去残余物,清洁干净;
(2)装载外形尺寸合格但其它技术指标不合格的光学元件,在光学真空镀膜机中镀制厚度为150±10nm的氧化锌隔离膜;
(3)将镀有铝隔离膜的光学元件取下,装载合格光学元件,按其技术要求在光学真空镀膜机中镀制膜层;
(4)光学真空镀膜机内腔及夹具达到15天的清洁周期后,取下光学真空镀膜机内腔及夹具在质量百分浓度为4%的盐酸水溶液中清洗,氧化锌隔离膜与盐酸发生反应,内腔及夹具表面沉积物脱落;
(5)用去纯净水漂洗三次,除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面残余的盐酸,烘干光学真空镀膜机内腔及夹具,将内腔及夹具装入光学真空镀膜机;
(6)按步骤(2)?(5)开展光学元件真空镀膜下一生产及清洁周期。
[0011]本方法除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面沉积物无需喷砂或砂布打磨,方便快捷,且对镀膜机内腔及夹具损伤较小。

1.一种光学真空镀膜机内腔清洁方法,其特征在于这种清洁方法具体步骤如下: (1)将光学真空镀膜机内腔及夹具清洁干净; (2)装载外形尺寸合格而其它技术指标不作要求的光学元件,在光学真空镀膜机中镀制隔离膜; (3)将镀有隔离膜的光学元件取下,装载合格光学元件,按其技术要求在光学真空镀膜机中镀制膜层; (4)光学真空镀膜机内腔及夹具达到清洁周期后,取下光学真空镀膜机内腔及夹具在酸性水性清洗液中清洗,除去内腔及夹具表面沉积物; (5)除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面残余的酸性水性清洗液,烘干或晾干光学真空镀膜机内腔及夹具,将内腔及夹具装入光学真空镀膜机; (6)按步骤(2)?(5)开展光学元件真空镀膜下一生产及清洁周期。2.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法,其特征在于所述隔离膜为可溶于酸性水性清洗液的金属膜、氧化物膜或氟化物膜中的一种或几种的组合物。3.如权利要求1所述的光学真空镀膜机内腔清洁方法,其特征在于所述隔离膜膜层厚度为20?200nm。
本发明涉及光学元件真空镀膜领域,尤其是一种光学真空镀膜机内腔清洁方法。这种清洁方法具体步骤如下:(1)将光学真空镀膜机内腔及夹具清洁干净;(2)装载外形尺寸合格而其它技术指标不作要求的光学元件,在光学真空镀膜机中镀制可溶于酸性水性清洗液厚度为20~200nm的隔离膜;(3)将镀有隔离膜的光学元件取下,装载合格光学元件,按其技术要求在光学真空镀膜机中镀制膜层;(4)光学真空镀膜机内腔及夹具达到清洁周期后,取下光学真空镀膜机内腔及夹具在酸性水性清洗液中清洗,除去内腔及夹具表面沉积物。(5)除去光学真空镀膜机内腔及夹具表面残余的酸性水性清洗液,烘干或晾干光学真空镀膜机内腔及夹具,将内腔及夹具装入光学真空镀膜机;(6)按步骤(2)~(5)开展光学元件真空镀膜下一生产及清洁周期。本方法较常规喷砂或砂布打磨等方法,方便快捷,且对镀膜机内腔及夹具损伤较小。
C23C14/22
CN105296927
CN201510723567
訾云旭, 句红兵, 杨勇, 李莉, 訾云海, 荀涛, 张宝福
云南汇恒光电技术有限公司
2016年2月3日
2015年10月29日

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